光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子，先研磨后分散效果更佳。
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石墨烯水性涂料研磨分散機(jī)線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。
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光催化劑實驗室納米分散機(jī)一般需要將二氧化tai分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散，使懸浮液（或乳化液）體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程，這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。
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碳纖維紡絲高剪切研磨分散機(jī)還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
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有機(jī)膨潤土提純高剪切分散機(jī)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
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